英飞凌科技正扩大与英伟达的合作,为下一代800V高压直流(HVDC)AI数据中心架构开发基于氮化镓(GaN)的电源转换系统。此次合作聚焦于电源输送链路中负责降压的高压中间总线转换器(HV IBC),旨在以更简洁、更高密度的800V直流设计,取代当今多级、低效的电源转换拼凑方案。这一举措将氮化镓定位为英伟达即将推出的AI平台中机架级供电的关键使能技术。
概述
英飞凌科技(Infineon Technologies)正在扩大与英伟达(NVIDIA)的合作,以攻克现代AI基础设施中最严苛的工程难题之一:供电。借英伟达GTC柏林大会之机,两家公司宣布将联合聚焦于800伏直流(VDC)架构中的高压中间总线转换器(IBC)环节,并将英飞凌的氮化镓(GaN)技术置于该设计的核心位置。此次宣布直接建立在双方于2025年5月首次勾勒、并于去年10月进一步扩展的合作伙伴关系之上,该合作为可维护、支持热插拔的800 VDC服务器机架奠定了基础。
这一表述的框架本身就很重要。它并非一份常规的元器件供应协议,而是一项协同工程行动,意在恰逢机架级功耗攀升至兆瓦量级之际,重写AI机架内部的电源转换链路。
800 VDC架构的范式转变
传统数据中心供电基础设施从来就不是为密集AI训练与推理集群如今施加的负载特性而设计的。随着机架功耗不断攀升,传统配电架构在电流、铜用量和转换损耗方面撞上了难以逾越的物理极限。业界的应对之策是向800 VDC配电迁移,并在过渡期与现有方案并行部署。
提高总线电压可在给定功率水平下降低电流,进而减少电阻性配电损耗以及承载电流所需的导体体积。但更高的总线电压也带来了新问题:AI处理器所依赖的硅级器件无法直接承受800 V电压。必须由某种环节以高效、高密度且可靠的方式完成降压。这一任务便落在了中间总线转换器身上。
技术深度剖析:为何GaN在IBC环节胜出
IBC位于800 VDC主总线与低压供电轨之间,下游各级再由这些低压轨生成供AI处理器使用的精准负载点电压。这是一种多级方案,在削减配电损耗的同时,还需在电路板空间、散热余量和系统正常运行时间等严格约束下运行。
事实证明,GaN是该环节最优的半导体技术。与传统硅器件相比,GaN的开关速度显著更快,在IBC层面可达1 MHz的频率,同时将损耗保持在极低水平。正是这一开关频率,成为改变电路板设计经济性的关键杠杆。
- 更小的磁性元件与无源器件:更高的开关频率可缩小所需磁性元件与无源元件的尺寸,而这些元件在较低频率下往往主导着转换器的占板面积。
- 更高的功率密度:其直接结果是电路板高度大幅降低,从而释放出在AI部署中极为稀缺的机架空间。
- 散热缓解:GaN超低的导通损耗与开关损耗带来业界一流的转换效率,即便机架功率密度飙升,也能将发热控制在合理范围内。
这三种效应相互叠加、彼此放大。用于电源转换的电路板面积减少,意味着留给计算单元的面积增多;转换环节产生的热量减少,意味着从处理器分流出去的散热能力也随之减少。在兆瓦级机架中,这些余量属于架构性优势,而非渐进式改进。
产品组合广度与“从电网到核心”的整合
英飞凌的GaN产品组合支持全系列高压IBC转换比,可将800 V降至50 V、12 V或6 V。这种灵活性使数据中心运营商能够量身定制机架架构,而无需牺牲效率或密度。
尤为关键的是,英飞凌将其GaN功率开关与其PSoC Control C3及EiceDRIVER系列产品搭配使用,并依托自有制造能力与系统级专业经验作为支撑。其更广泛的产品组合还涵盖硅和碳化硅(SiC)方案,以覆盖各类设计需求。因此,该公司出售的并非单一器件,而是围绕该器件构建的一套匹配的控制与驱动堆栈。
除IBC之外,此次合作还覆盖整个数据中心供电链路,包括先进的功率路径保护与热插拔控制器功能。这些正是确保800 VDC AI服务器板卡在维护和故障事件期间仍能无缝运行的安全性与可维护性特性。这一组合将英飞凌定位为“从电网到核心”的合作伙伴,提供从设施主供电直达AI处理器的优化电源解决方案。
市场背景
这一时机反映出AI基础设施经济学中更广泛的挤压效应。供电已从一项后台关切,转变为制约运营商能在单个机架中塞入多少加速器的首要约束。每挽回一个百分点的转换效率、每夺回一平方毫米的电路板面积,都可转化为可部署的算力。那些能够供应从设施级配电一直到处理器供电轨全链路的厂商,将在机架参考设计中获得不成比例的影响力。
行业影响
通过将GaN锚定在与英伟达联合开发的800 VDC架构的IBC环节,英飞凌实际上是在主张:宽禁带半导体应当居于AI供电的核心,而非边缘。这一定位给竞争的功率半导体供应商施加压力,迫使它们展示出可比的高压GaN能力、匹配的控制硅以及系统级整合实力。它同时也提高了机架集成商的技术门槛——如今它们必须将电源架构视为与计算硅协同优化的设计变量,而非下游的采购决策。
对AI数据中心的意义
对运营商而言,实际影响集中在三个方面:密度、可维护性和散热预算。更简洁、更高密度的800 VDC设计,取代了当今多级、低效的电源转换拼凑方案。支持热插拔的800 VDC机架——由该合作早期阶段奠定的基础——可在组件更换期间保持正常运行时间。而更低的转换损耗则减轻了那些本就受散热余量制约的设施的冷却负担。
未来展望
英飞凌首席执行官约亨·哈内贝克(Jochen Hanebeck)从结构性角度阐述了这一努力:“AI正在从根本上重塑我们对电力基础设施所提出的要求,而半导体正是解决这一挑战的核心所在。我们与英伟达在800伏供电架构上的合作表明,当深厚的半导体专业能力遇上AI所要求的创新速度时,一切皆有可能。基于氮化镓的系统解决方案是这一代新型数据中心的关键使能因素,英飞凌很自豪能够从电网到核心,为AI时代提供动力。”
悬而未决的问题是:800 VDC机架设计将以多快的速度从联合开发走向在英伟达即将推出的AI平台上的规模化部署。若果真如此,GaN在IBC环节的地位将从“前景可期”转变为“默认之选”,而“从电网到核心”的整合模式也将成为业界其他厂商用以对标的参考架构。